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 雙面拋光機設(shè)備應(yīng)用范圍 

雙面拋光機設(shè)備主要適用于硅片、石英晶片、光學(xué)晶體、玻璃、寶石、鈮酸鋰、砷化鎵、陶瓷片等薄脆金屬或非金屬的研磨或拋光。

 雙面拋光機主要特點 

1、平面研磨機采用四動拋光原理；二電機分別拖動上下拋盤、太陽輪、內(nèi)齒圈；雙面拋光機的PLC調(diào)整設(shè)定控制；彩色NT顯示的人機界面系統(tǒng)；

2、雙面拋光機的龍門箱形結(jié)構(gòu)，配置大功率減速系統(tǒng)，軟啟動、軟停止，運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，拋光時間根據(jù)計時器可隨意設(shè)定，雙面拋光機采用了自動供給拋光液裝置；

3、拋光液接觸的零部件選用了防腐材料或表面進行了特殊處理；

4、雙面拋光機通過精密稱重傳感器與高精密的氣動控制系統(tǒng)聯(lián)合實現(xiàn)了壓力閉環(huán)反饋控制，確保了工件壓力的準確性；

5、雙面拋光機主要采用了強制集中潤滑；

6、雙面拋光機的拋光液系統(tǒng)具有獨立攪拌、循環(huán)水冷卻、拋光液加熱以及拋光液溫度檢測功能，各功能可選配制做。

 雙面拋光機技術(shù)參數(shù) 

1、拋光拖動電機：5.5KW 380V 1440rpm；

2、太陽輪拖動電機：2.2KW 380V 1440rpm；

3、上拋盤規(guī)格：φ630mm×φ240mm×30mm；

4、下拋盤規(guī)格：φ630mm×φ240mm×30mm；

5、游輪參數(shù)：公制Z=114 M=2；

6、游輪數(shù)量：5片；

7、最小拋光厚度：0.4mm/φ75mm；

8、最大拋光厚度：100mm；

9、下拋盤轉(zhuǎn)速范圍：0—50rpm；

10、需配備空氣源壓力：0.5—0.6Mpa；

11、下拋盤的端面跳動量：≤0.04mm；

12、下拋盤的平面度：0.015 mm；

13、雙面拋光機設(shè)備外形尺寸：（長×寬×高）1400mm×1200mm×2400mm；

14、 雙面拋光機重量： 約2800kg；

15、 雙面拋光機承片量：單盤：4片/φ75 mm、3片/φ100 mm

5盤：20片/φ75 mm、15片/φ100 mm。